簡要描述:TruPlasmaDC4010 (G2)脈沖等離子體電源TruPlasma DC 4000 (G2) 系列專為困難材料的直流反應(yīng)濺射而開發(fā)。以脈沖式直流電工作的該款發(fā)生器經(jīng)受住尤為嚴苛的 PVD (物理氣相沉積)和 PECVD (等離子體增強化學(xué)氣相沉積)工藝的考驗,這些工藝對涂層質(zhì)量與生產(chǎn)效率均有*要求。緊湊型直流電源可在脈沖與偏壓模式下使用——亦即兩種設(shè)備集于同一外殼!
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TruPlasma DC 4000 (G2) 系列專為困難材料的直流反應(yīng)濺射而開發(fā)。以脈沖式直流電工作的該款發(fā)生器經(jīng)受住尤為嚴苛的 PVD (物理氣相沉積)和 PECVD (等離子體增強化學(xué)氣相沉積)工藝的考驗,這些工藝對涂層質(zhì)量與生產(chǎn)效率均有*要求。緊湊型直流電源可在脈沖與偏壓模式下使用——亦即兩種設(shè)備集于同一外殼!
出色的涂層質(zhì)量和生產(chǎn)效率
數(shù)字化信號處理確保工藝穩(wěn)定并將受電弧限制的時間損失最小化。
即便工藝條件嚴苛,也能實現(xiàn)最佳結(jié)果
快速電弧處理與直流脈沖技術(shù)相結(jié)合,將基板損壞最小化。
輕松適配工藝
得益于寬泛的頻率范圍和可調(diào)反向電壓。
緊湊又堅固的結(jié)構(gòu)
集成水冷裝置節(jié)省空間,減少維護工作。
快速電弧處理與直流脈沖技術(shù)相結(jié)合使微滴率降低且表面缺陷減少。受電弧限制的工藝中斷降到最少,沉積速率顯著提高。
可在寬泛的范圍內(nèi)調(diào)整脈沖頻率,直流發(fā)生器還配備偏壓模式。借此可將同一臺設(shè)備用于眾多應(yīng)用。精心設(shè)計的監(jiān)控工具支持您優(yōu)化工藝。
不同選項讓脈沖式直流電源以最佳方式適配您的應(yīng)用。
多臺 TruPlasma DC 4000 (G2) 系列直流電源可同步運行。對于指向不同目標的多臺電源,該模式能夠?qū)崿F(xiàn)電弧的同步識別。脈沖模式也可進行同步。
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